■ 개 요

리소그래피 기술은 반도체 기술을 발전시키는 원동력이며 디스플레이 및 반도체 프로세스의 매우 중요한 기술로서 반도체 디바이스의 미세화와 집적화를 주도하는 역활을 담당하는 핵심기술입니다. 향후 차세대 나노소자개발을 위하여 필수적인 리소그래피 관련기술을 먼저 확보하려는 연구와 기술경쟁이 치열해질 것으로 예상됨에 따라 이번 세미나를 통하여 리소그래피 기술의 동향과 현재 개발중인 차세대 리소그래피 기술의 현황 및 전망에 대하여 알아보고자 합니다.

■ 일 시 : 2005년 11월 17일(목)~18일(금) 10:00∼17:00

■ 장 소 : 여의도 사학연금회관 2층 세미나실
(5호선 여의도역 2번출구 바로위에 위치)

■ 주 최 : 산업교육연구소 www.mscan.co.kr

■ 교육비
사전등록:27만5천원%!^b현장등록:29만7천원
(강의교재%!^b중식 및 다과%!^bVAT포함)

■ 참가신청방법

① 전화(02-2025-1333(代)) 또는 인터넷신청 www.mscan.co.kr
→ 교육비입금 (신한은행343-05-018114) 예금주 : 산업교육연구소 → 신청완료

② 전화신청 → 교육당일 현장접수 및 현금 또는 카드결제

■ 신청문의 : 정보사업팀 이은희 연구원%!^b 서옥화 연구원 (02-2025-1334%!^b7)
E-mail : kiei1334@kidc21.com