교육 · 연수
첨단산업 · 성장핵심 품목을 선정하여
기술흐름과 시장동향 및 발전전략을
심층분석합니다.

교육예정일정표

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교육일정 2005-11-17 ~ 2005-11-18
강 좌 명 반도체/디스플레이산업의 노광(Lithogragh)공정과 기술분석 및 발전방안
교육장소 여의도 사학연금회관 2층 세미나실 강 사 명
정 원 130 진행상황 접수마감
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■ 교육일시: 2005년 11월 17일(목)~ 18일(금) 10:00∼17:00 ■ 교육비: 사전등록:27만5천원/1인, 현장등록:29만7천원/1인 (강의교재,중식 및 다과,VAT포함) ■ 장 소: 서울 여의도 사학연금회관 2층 세미나실 (지하철 5호선 여의도역 2번출구. 바로위에 위치) ■ 주 최: 산업교육연구소 https://www.kiei.com ■ AGENDA 11월 17일 (목)
시간 
    주     제
10:00~12:00 
■ Photolithogragh의 원리와 역할
   1. Introduction
   2. Exposure Technology
   3. Resist Process
   4. Mask&OPC
   5. Next Generation Lithography
12:00~13:00 
■ Photolithogragh 안정화를 위한 세정기술
   1. 세정개요
   2. 오염이론
   3. 입자/금속제거이론
   4. 표면/세정도상태와 변화 및 측정기술
   5. 친환경적 세정기술과 향후전망
13:00~14:00 
중       식
14:00~15:30 
■ 반도체 분야의 Photolithogragh 공정과 기술
   1. Basic Theory & Terminologies
   2. Photoresist
   3. Photomask
   4. OPC
   5. NGL
15:30~17:00 
■ 디스플레이의 Photolithogragh 공정과 사례
11월 18일 (금)
시간 
    주     제
10:00~12:00 
■ 차세대 멀티전자빔 리소그라피 기술
   1. 전자빔 리소그라피 소개
   2. 전자빔 리소그라피 발전 방향
   3. 멀티전자빔 리소그라피 기술
   4. 멀티 전자빔 기술 및 응용
12:00~13:00 
■ Photolithogragh의 특허현황 및 기술적 대처
13:00~14:00 
중       식
14:00~15:30 
■ 극자외선(EUV)Lithography기술과 차세대 노광기술
15:30~17:00 
■ 나노임프린팅 리소그라피 기술과 공정 
   1. 임프린팅 리소그라피의 기본 요소
   2. 종류별 임프린팅 리소그라피
   3. 반도체용 임프린팅 리소의 응용
   4. 디스플레이용 임프린팅 리소의 응용
■ 참가신청 방법 A. 사전접수 1. 전화 (02-2025-1333 代) 또는 인터넷 신청 http://www.mscan.co.kr 2. 교육비 무통장 입금 (신한은행 343-05-018114), 예금주: 산업교육연구소 3. 접수완료 B. 현장접수 1. 교육당일 현장접수 및 현금 또는 카드결제 ■ 신청 문의: 정보사업팀 이 은희, 서 옥화 연구원 (Tel. 02-2025-1334, 1337) E-mail: kiei1334@kidc21.com ■ 교육장소 (여의도역 2번출구) ■ 프로그램의 주제 및 스케줄은 연사의 사정에 의해 일부분 변경될 수 있습니다. ■ 좌석이 한정되어 있으므로 조기에 등록이 마감될 수 있습니다. ■ 본 행사장은 유료주차이오니 가급적 대중교통수단을 이용해 주시기 바랍니다. ■ 환불은 세미나 2일전까지 가능합니다. ■ 카드결제시에는 세금계산서 발급이 되지 않습니다. (부가가치세법 시행령 57조 2항)
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